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Cameo Disk Platinium寶石白金磨盤(pán)使用說(shuō)明
日期：2013-09-28瀏覽：3575次
Cameo Disk Platinium寶石白金磨盤(pán)使用說(shuō)明
1.Cameo Disk Platinium產(chǎn)品描述
Cameo Disk Platinium是一種打磨功能的預(yù)磨片。使用這種磨片可以取代所有普通砂紙
的預(yù)拋光步驟。由于能夠持續(xù)地供應(yīng)潤(rùn)滑劑，Cameo Disk Platinium的蜂巢結(jié)構(gòu)優(yōu)化了金剛
粒狀的工作方式。這個(gè)表面結(jié)構(gòu)確保了所有樣品*的平整度。
Cameo Disk Platinium特別應(yīng)用于材質(zhì)硬度大于 120HV的快速預(yù)拋光。
Cameo Disk Platinium具有以下 4 種規(guī)格：
Cameo Disk Platinium 1 藍(lán)色 替代所有使用粒狀 120-180 砂紙的預(yù)拋光步驟。
Cameo Disk Platinium 2 綠色 鑒于其打磨功能和預(yù)處理拋光特性取代粒狀220－320的
砂紙。
Cameo Disk Platinium 3 黃色 替代所有使用粒狀 600 砂紙的拋光步驟。
Cameo Disk Platinium 4 紅色 替代所有使用粒狀 1200 砂紙的zui終拋光步驟。
Cameo Disk Platinium直徑有 200/250/300mm三種。
2．Cameo Disk Platinium的安裝
安全提示
在磨片旋轉(zhuǎn)過(guò)程中不要接觸外邊緣，磨片不要彎曲，不要貼標(biāo)簽于磨盤(pán)金屬背面。
安裝
磁性的 Cameo Disk Platinium
把 Cameo Disk Platinium放在磁性支撐圓盤(pán)上（或者其他磁性系統(tǒng)）。兩快薄片的接觸面必
須非常的清潔，干燥。分離 Cameo Disk Platinium和支持盤(pán)時(shí)，從磨片在邊緣處提起，然后
小心取下。磨片不要彎曲，以便造成損傷或?qū)е聢?bào)廢。
3．Cameo Disk Platinium的使用
Cameo Disk Platinium用于硬質(zhì)和中度硬度材料的表面快速研磨
分類(lèi)：
Cameo Disk Platinium 1 專(zhuān)門(mén)用于堅(jiān)硬材質(zhì)和快速原料研磨。
Cameo Disk Platinium 2、3、4 適用于樣品zui后光滑修整。
在需要的情況下我方技術(shù)部門(mén)會(huì)給您提供相關(guān)研磨拋光方法
試樣夾具的定位
為了獲取的樣品平坦度和達(dá)到 Cameo Disk Platinium的均勻鉵刻，要把試樣夾具進(jìn)行特
定放置，以便樣品在內(nèi)，外部都突出夾具工作面幾毫米。
潤(rùn)滑劑
在預(yù)拋光階段主要是以水作為潤(rùn)滑劑來(lái)投入使用的。在對(duì)非常敏感的樣品加工時(shí)可以使用不
腐鉵的液體來(lái)替換水作為潤(rùn)滑劑。
壓力
硬度大于 200HV 的材料加工平均壓力達(dá)到 P=250g/平方厘米。在樣品上給出的壓力將以 i
表示。
Ø樣品 Ø20mm Ø30mm Ø 40mm Ø50mm
i=P（樣品表面） 8N 18N 30N 50N
在軟材質(zhì)上（小于 120HV）必須把壓力減小到 150g/cm2
，而對(duì)于特硬材質(zhì)上（大于HV500）
將壓力提高倒 350g/ cm2
。在提高壓力時(shí)Cameo Disk Platinium能達(dá)到了更高的功效，但前提
是必須經(jīng)常對(duì)磨片進(jìn)行修整。
速度
Cameo Disk Platinium的推薦速度達(dá)到 300rpm。在提高速度時(shí) Cameo Disk Platinium將達(dá)到
更高的磨削性能，前提是需要對(duì)磨片進(jìn)行經(jīng)常修整。
4． Cameo Disk Platinium 的保養(yǎng)
Cameo Disk Platinium 不僅可以在自動(dòng)打磨機(jī)中使用，同樣也適用于人工打磨機(jī)。Cameo
Disk Platinium的表面含有一層保護(hù)膜。在*次使用前，必須通過(guò)附帶的磨石對(duì)其進(jìn)行鉵
刻。為了確保*的磨削，必須對(duì) Cameo Disk Platinium用 Cameo 的磨石進(jìn)行定期修整。
根據(jù)材料的品種以及被處理樣品的量對(duì)拋光間隔進(jìn)行調(diào)整。
以下表格提供了些拋光間隔的基本值
材料 樣品 樣品數(shù)量 拋光間隔
鋼 大約 300 HV 鑲嵌的 Ø32mm 6 40 分鐘
鋼 大約 300 HV 不鑲嵌的 Ø32mm 6 15 分鐘
如果樣品的大小和硬度具有重要意義的話(huà)，要降低單個(gè)修整的時(shí)間間隔。如果樣品的大小
和硬度不是zui重要的話(huà)，可以延長(zhǎng)修整的時(shí)間間隔。
Cameo Disk Platinium的拋光：
z 磨片放置在磁性支撐圓盤(pán)上
z 用大量的水進(jìn)行沖洗
z 轉(zhuǎn)速為 150rpm
z 磨石放置在磨片的中央，并輕而緩慢地向邊緣移動(dòng)并加輕微壓力。
清潔
為了保證 Cameo Disk Platinium的質(zhì)量，我們推薦在每次使用好磨片后，用刷子在流水中
進(jìn)行清洗并且稍后用壓縮空氣進(jìn)行吹干。
磁性支持盤(pán)在使用后需要用干布進(jìn)行清潔。
保存：在磨片使用周期中，為了預(yù)防污垢，需存放在 BOXLAM 中。
磨片更換：如果表面的蜂巢結(jié)構(gòu)被*磨損了，則必須進(jìn)行磨片更換。如果出現(xiàn)大的裂縫
或噴濺時(shí)，必須對(duì)磨片進(jìn)行替換。在使用磁鐵型號(hào)時(shí)可能由于變形（通過(guò)敲打和扭轉(zhuǎn)）而
進(jìn)行磨片更換。
產(chǎn)品分類(lèi)
- 氫檢儀氣密性檢漏檢測(cè)儀
- 國(guó)產(chǎn)源表，替代keithley
- 穩(wěn)科Wayne Kerr/MICROTEST
- 體積電阻率/表面電阻測(cè)試
- 半導(dǎo)體I-V/C-V/I-R測(cè)試
- 介電常數(shù)/電導(dǎo)率測(cè)試方案
- 大眾VW80000/通用GMW3172/ISO16750標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試
- 電化學(xué)工作站/恒電位儀
- IBGT/MOSFET/SiC/GaN測(cè)試
- 電池/光伏/汽車(chē)充電樁測(cè)試
- DESCO/KLEINWACHTER靜電測(cè)試
- 體積電阻，電阻計(jì)，記錄儀
- 吉時(shí)利KEITHLEY/泰克Tektronix
- 安捷倫Agilent/是德KEYSIGHT
- 愛(ài)斯佩克ESPEC環(huán)境試驗(yàn)箱
- 普源RIGOL/致遠(yuǎn)ZLG/鼎陽(yáng)SIGLENT
- Chroma致茂/EEC華儀EXTECH
- 邏輯分析儀/總線協(xié)議測(cè)試
- EMI/EMC/EMS電磁干擾兼容
- 物料輪廓顏色缺料視覺(jué)篩選
- 愛(ài)色麗X-Rite/電色NIPPON
- 梅特勒METTLER
- 博勒飛Brookfield
- 賓德BINDER試驗(yàn)箱
- 美國(guó)BK PRECISION
- 紅外熱像儀
- 金相切割/鑲嵌/研磨拋光
- ADCMT愛(ài)德萬(wàn)ADVANTEST
- COSMOS氣體/鐵粉濃度計(jì)
- ITECH艾德克斯/NGI恩智
- 羅德與施瓦茨R&S（惠美HAMEG）
- 同惠/長(zhǎng)盛/安柏
- 標(biāo)準(zhǔn)源/計(jì)量校準(zhǔn)檢定設(shè)備
- 晶圓、芯片、屏幕Particle
- 日置HIOKI/國(guó)產(chǎn)替代
- 鎖相放大器
- 噪聲/振動(dòng)/聲學(xué)測(cè)試方案
- 日本KIKUSUI/IWATSU/HIOKI
- 電聲器件測(cè)試設(shè)備
- 長(zhǎng)盛耐壓絕緣電阻安規(guī)測(cè)試
- 永磁軟磁磁通量測(cè)試
- 汽車(chē)電子標(biāo)準(zhǔn)波形可編程電源
- SHIMAZU島津
- 德維創(chuàng)DEWETRON
- ARC電池絕熱量熱儀/熱安全性能
- 德國(guó)GMC-I高美
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